一、光刻胶技术突破推动国产替代加速
(一)盛美上海交付首台纳米级光刻胶固化设备
盛美上海在绍兴"光刻突围·材聚绍兴"研讨会上完成首台Ultra Lith BK光刻胶固化设备交付。该设备采用高温高压一体化设计,实现纳米级精度快速固化,显著提升光刻胶制程稳定性与良率。其自主研发的加热控温系统满足高端制造对固化环节的严苛需求,标志着国产光刻胶设备在关键技术领域实现突围。
盛美上海在绍兴"光刻突围·材聚绍兴"研讨会上完成首台Ultra Lith BK光刻胶固化设备交付。该设备采用高温高压一体化设计,实现纳米级精度快速固化,显著提升光刻胶制程稳定性与良率。其自主研发的加热控温系统满足高端制造对固化环节的严苛需求,标志着国产光刻胶设备在关键技术领域实现突围。
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