国家知识产权局：修改完善集成电路布图设计保护条例 助力芯片产业做大做强

　　国家知识产权局局长申长雨4月24日在国务院新闻办新闻发布会上表示，下一步，将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。

　　一是加快推动完成专利法实施细则修改，促进专利开放许可、实用新型明显创造性审查、外观设计明显区别审查等新修改内容实施，积极推进实用新型制度改革，做好我国加入海牙协定后的审查管理，全面融入全球外观设计体系。

　　二是加快新一轮商标法的修改论证，着力解决商标领域恶意抢注、大量囤积等深层次矛盾和问题。