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电子化学品行业早报：2025年7月28日

  1. 2025-07-28 09:10:24上传人：宇博**究院
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一、核心技术突破：国产高端材料加速迭代

(一)光刻材料领域：恒坤新材12英寸晶圆关键材料突破

技术进展：恒坤新材自产SOC(旋涂碳层)、BARC(抗反射涂层)及KrF/i-Line光刻胶已实现量产，ArF浸没式光刻胶通过验证并小规模销售，覆盖90nm以下逻辑芯片及先进存储芯片制造。

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