电子行业周报：65纳米光刻机突破，半导体设备国产化提速

2024-09-23 10:16:33上传人：时光**微伤
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突破，特别是在激光浸没式光刻机技术上取得了显著进展。在电子
专用设备一栏，氟化氪（ KrF ）光刻机、氟化氩（ ArF ）光刻机位
列其中。该资料显示，两者均属于 DUV 光刻机，氟化氩光刻机参数
为分辨率≤ 65nm 、套刻≤ 8nm ；氟化氪光刻机参数为分辨率≤
110nm 、套刻≤ 25nm 。
➢ 从技术层面来看，突破 65 纳米制程并非易事。在芯片生产过程中最
大的挑战之一，即是光刻工艺，其决定了芯片晶体管尺寸的大小，
从而直接影响芯片性能和功耗。而光刻机之复杂程度堪称人类科技
之巅。一方面，光刻机制造集成了精密光学、精密运动学、高精度
微环境控制、高精度测控等多学科全球最顶尖工程师和科学家的智
慧。另一方面，光刻机背后的光源系统、光学镜头系统、精密运动
和环境控制系统、测量系统等子系统的技术迭代成果均蕴含了该领
域最前沿的高精尖技术。我国这一突破具有极其重要的意义，
65nm 技术节点是半导体制造工艺中的一个重要里程碑，其能满足
我国众多领域对于芯片的需求，为我国的电子、通信、人工智能等
产业的发展提供了有力的支持，也标志着我国在集成电路芯片制造
领域已经迈出了坚实的一大步。
➢ AI 芯片、高性能计算等领域的强劲需求持续推动半导体资本开支的
增长，据半导体产业纵横转引 SEMI 数据，全球 300mm 晶圆厂设备
支出预计 2024 年增长 12% 至 820 亿美元， 2025 年增长 24% 至 1019 亿美
元，并在 2026 年达到 1188 亿美元的历史新高。同时，据新知 APP 数
据，截止 2023 年中国当年消耗的芯片占全球芯片消耗的 1/3 ，这反
映了我国强大的生产需求。鉴于光刻机产业链极高的技术壁垒及不
可或缺的产业地位，在半导体景气回升、资本开支稳步推进，叠加
海外对华先进技术严密管控的当下，该领域的自主可控具有十分紧
迫的战略价值。虽然起步较晚，但国内光刻机产业链从业者正在积
极追赶，补足短板，并已在相关零部件、光学部件、激光器件、双
工件台、掩膜版等领域取得一定进展。而本次高端 DUV 光刻机的问
世，对于我国芯片产业而言，无疑是注入了一针强心剂。随着国内
半导体产业链上下游协同攻关，以及多方资本有力加持，国产光刻
机及相关供应链有望顺利扬帆，并为科技信息产业发展保驾护航。
➢ 投资建议：建议关注光刻机产业链整机及相关零部件公司，包括：
上海微电子（未上市）、华卓精科（未上市）、科益虹源（未上
市）、苏大维格、晶方科技、新莱应材、腾景科技、茂莱光学、炬
光科技、福晶科技、福光股份、美埃科技、清溢光电、路维光电、
芯碁微装等。
➢ 风险提示：技术发展及落地不及预期；下游终端出货不及预期；下
游需求不及预期；市场竞争加剧风险；地缘政治风险；行业景气不
及预期。
Tabl e_ First|T abl e_R e portD at e
电子
2024 年 9月 23日
Tabl e _First|Tabl e_ Rati n g
强于大市 (维持评级 )
Tabl e_ First|T abl e_C h art 一年内行业相对大盘走势
电子行业估值（ PE）
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行业定期研究 |电子
正文目录
一、本周市场表现
1.1 电子板块本周表现
1.2 SW 电子个股本周表现
1.3 电子板块估值分析
二、行业动态跟踪
2.1 半导体板块
2.2 AI 板块
2.3 消费电子板块
2.4 汽车电子板块
2.5 面板板块
三、公司动态跟踪
四、风险提示