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光掩模及空白掩模行业研究：集成电路制造的光刻蓝本

  1. 2025-09-03 05:02:01上传人：爱或**me
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光掩模是连接IC设计与制造的关键图形蓝本掩膜版（Photomask）又称光罩、掩模版、光刻掩膜版等，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具。光掩模用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游电子元器件制造业流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一，是产业链中不可或缺的工具，

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