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涂胶显影+清洗设备一体两翼发展,北方华创战略收购,大湿法平台化提速

  1. 2025-08-19 14:10:45上传人:如花**年纪
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芯源微(688037)投资要点:芯源微是国内领先的大湿法设备龙头,致力于为客户提供半导体前后道装备与工艺的整体解决方案。公司不断优化产品布局,目前已形成前道涂胶显影设备、前道清洗设备、后道先进封装设备以及临时键合、解键合设备和化合物等小尺寸设备的产品矩阵。涂胶显影设备持续突破,化学清洗设备产业化进展顺利,后

  • 1.芯源微:深耕半导体设备,业务收入快速增长
  • 1.1.深耕半导体制造设备,国产涂胶显影突破
  • 1.1.1.23年深耕,大湿法设备全面布局
  • 1.1.2.经历四个发展阶段,铸造国内大湿法设备龙头
  • 1.1.3.北方华创成为第一大股东,核心团队战斗力强
  • 1.2.业务范围持续扩张,营收及利润有望快速增长
  • 1.2.1.穿越周期,产品落地叠加国产替代推动收入增长
  • 1.2.2.机台单价良性增长,研发投入增长
  • 2.行业:涂胶显影与清洗均为核心工艺环节,设备市场规模广阔
  • 2.1.前道工艺是电路的物理实现过程,步骤复杂,设备繁多
  • 2.2.涂胶显影机是光刻工艺的核心设备
  • 2.2.1.涂胶显影机主要承担曝光外的其他光刻工艺
  • 2.2.2.光刻胶旋涂、烘烤、显影与清洗是设备核心工艺单元
  • 2.2.3.新型材料持续涌现,设备整合助力涂胶显影设备发展
  • 2.2.4.公司已完成对前后道涂胶显影设备的布局,技术持续突破
  • 2.3.单片式湿法设备是半导体制造应用最广泛的设备之一
  • 2.3.1.单片式清洗设备主要分六大模块,以提升效率和结果为核心
  • 2.3.2.清洗工艺与技术持续创新满足晶圆厂对清洗全方位需求
  • 2.3.3.公司初步完成对前后道清洗工艺设备的布局
  • 2.4.半导体设备需求持续增长,中国大陆成为全球重要市场
  • 2.4.1.晶圆厂资本支出长期处于上升趋势
  • 2.4.2.产能转移推动中国市场增长,国内市场具备强劲发展动能
  • 2.5.涂胶显影设备市场垄断性强,工艺演进推动需求增长
  • 2.6.美日韩厂商垄断清洗设备市场,技术迭代与工艺演进促进需求增长
  • 2.6.1.技术变革与工艺演进推动晶圆厂对清洗设备需求
  • 3.盈利预测与评级
  • 3.1.盈利预测拆分表
  • 3.2.相对估值
  • 4.风险提示
  • 请务必仔细阅读正文之后的评级说明和重要声明 第5页/共34页
  • 源引金融活水润泽中华大地
  • 图表1:公司产品布局及主要客户
  • 图表2:公司发展历程
  • 图表3:公司股权结构(截至2025年6月23日)
  • 图表4:2019-2024年公司营收规模及增速
  • 图表5:2019-2024年公司归母净利润及增速
  • 图表6:2019-2024年公司营收结构拆分(单位:亿元)
  • 图表7:2019-2024年公司营收结构拆分(分产品)
  • 图表8:2017-2024年公司涂胶显影机台单价
  • 图表9:2017-2024年公司清洗设备单价
  • 图表10:2019-2024年公司销售费率和管理费率
  • 图表11:2019-2024年公司研发费用及费率
  • 图表12:2019-2024年公司研发人员数量及占比
  • 图表13:2024年公司研发人员学历情况
  • 图表14:公司在研项目情况(截至2024年报)
  • 图表15:半导体设备分类表
  • 图表16:一个典型的浸没式光刻工艺流程
  • 图表17:一个典型的浸没式涂胶显影机配置情况
  • 图表18:喷胶单元工作示意图
  • 图表19:三种典型的显影液喷淋方式
  • 图表20:公司前道涂胶显影设备
  • 图表21:公司后道涂胶显影设备
  • 图表22:湿法清洗可以去除多种残留物质
  • 图表23:半导体生产制造中的主要湿法清洗方式
  • 图表24:半导体硅片制造流程中需要大量的清洗环节
  • 图表25:纳米喷射清洗示意图
  • 图表26:兆声波清洗技术示意图
  • 图表27:公司前后道清洗设备布局
  • 图表28:2019-2026年全球半导体设备市场规模及预测
  • 图表29:2022-2026年全球晶圆厂设备投资预测
  • 图表30:2018-2024年中国大陆半导体设备市场规模
  • 图表31:2024年全球半导体市场份额划分(按地区)
  • 图表32:2017-2024年中国涂胶显影设备行业产值及市场规模
  • 图表33:2024年中国涂胶显影设备市场竞争格局
  • 图表34:公司前道涂胶显影设备核心技术自主研发情况
  • 图表35:2022-2030年全球半导体清洗设备市场规模预测
  • 图表36:2023年全球半导体清洗设备市场竞争格局
  • 图表37:工艺步骤增加带来清洗步骤增长
  • 图表38:3DNAND较2DNAND复杂,清洗难度更大
  • 图表39:2.5D与3D先进封装示意图
  • 图表40:铜互连电镀工艺流程
  • 图表41:芯源微收入预测(亿元)
  • 图表42:可比公司估值表
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