金属与材料行业研究周报:大厂入局,氮化镓功率半导体迎来新增长点
- 2023-09-11 14:21:05上传人:丿S**el
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- 行业走势图
- 大厂入局,氮化镓 功率半导体迎来新增长 点
- 大厂纷纷入局氮化镓功率器件市场。 日本 东芝旗下的东芝器件 与 存储 公司 发布首款 氮
- 化镓功率器件 ; 美国半导体器件公司 Odyssey 发布的 垂直结构 氮化镓器件最高工作
- 电压可达 1200V ,且具有更高的品质因数和工作频率。 ROHM 公司发布栅极驱动器
- 和氮化镓 HEMT 一体化封装 产品, 可以替代现有的 Si MOSFET ,从而使器件体积减少
- 99% ,功率损耗降低 55% 。
- 氮化镓:第三代半导体代表 。 随着 5G 技术、汽车、无线通信、航天航空等技术的
- 高速发展,电气化程度的提高对耐高温、耐高压、高频及大功率的性能有着迫切需求。
- 氮化镓作为第三代宽禁带半导体的代表之一,拥有宽禁带、高击穿场强、高热导率和
- 高电子漂移速率等优点,制备出的氮化镓器件导通电阻小、电子迁移率高、热导性好,
- 而且在散热、能耗、体积等方面也有着很大的优势,可以极大地提升新兴电力电子器
- 件的性能,还能达到节省能源的效果 。
- 氮化镓功率器件正在快速取得技术突破 。为获得性能更优的氮化镓器件以抢占市场份
- 额,各大厂商正在在垂直型结构和提高集成度等方向上寻求技术突破 。随着氮化硅功
- 率器件的性能及性价比 的进一步提升,未来在高、中、低电压场景下都将有很大的发
- 展潜力,看好其在汽车电气系统、大规模集成电路、无线通讯等领域的发展 。
- 风险提示: 技术发展不及预期的风险;行业竞争加剧的风险;政策风险 。
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- 金属与材料 沪深 300
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