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2025-2030年全球与中国磺胺甲基异恶唑行业市场现状调
2025-08-11
电子专题报告：光刻机国产化迫在眉睫，关注产业链投资机会
- 2025-07-14 18:20:57上传人：Li**情话
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投资要点：光刻机——工业皇冠上的明珠。芯片制造流程大致包括晶圆加工、氧化、光刻、刻蚀、薄膜沉积、互连、测试、封装等重要步骤。其中，光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。光刻原理是将高能雷射光穿过光罩（reticle），使光罩上的电路图形透过聚光镜（projectionlens），将影像缩小
- 1.光刻机：工业皇冠上的明珠
- 1.1光刻是芯片制造的关键工艺，光刻机是核心设备
- 1.2掩膜光刻和直写光刻各有不同应用，投影式光刻逐渐替代接触/接近式
- 1.3提升光刻机分辨率路径：更短波长、增大数值孔径
- 1.4全球市场规模超300亿美金，ASML一家独大
- 2.美对华加大半导体技术封锁，光刻机自主可控迫在眉睫
- 2.1国内晶圆制造产业加速扩张，光刻机需求持续增长
- 2.2美国加大对华半导体出口管制，光刻机国产化迫在眉睫
- 3.光刻机主要由照明光学模组、投影物镜模组、晶圆平台模组构成
- 3.1照明光学模组
- 3.2投影物镜模组
- 3.3晶圆模组
- 4.投资建议与重点公司介绍
- 4.1投资建议
- 4.2重点公司介绍
- 5.风险提示
- 图1：半导体制造主要工艺流程
- 图2：光刻工艺包含涂胶、曝光、显影
- 图3：泛半导体主要光刻技术分类
- 图4：直写光刻、接近接触式光刻以及投影式光刻
- 图5：分辨率由瑞利准则决定
- 图6：Halfpitch=线宽（CD）=Resolution分辨率
- 图7：光刻机光源沿着更短波长演进
- 图8：光刻机分辨率的发展
- 图9：传统干法光刻机增大物镜直径会有临界点
- 图10：加水后投影物镜射出的光折射角会显著变小
- 图11：全球光刻机市场规模，亿美元
- 图12：光刻机销量仍以中低端产品为主
- 图13：光刻机行业呈现寡头垄断格局，2022年
- 图14：光刻机前三大公司出货情况，2022
- 图15：光刻机市场主要参与者份额变化
- 图16：中国大陆晶圆厂布局
- 图17：4Q24-4Q25中国大陆主要晶圆厂扩产计划
- 图18：人工智能发展需要算力提供支撑
- 图19：全球IDCGPU市场规模持续增长，亿美元
- 图20：光刻机占晶圆产线购置成本最高
- 图21：工艺线越先进，投资额越高，亿美元
- 图22：ASML对中国大陆设备销售收入，亿欧元
- 图23：中国大陆设备销售占ASML收入41%，2024
- 图24：光刻机内部结构示意图
- 图25：照明模组对光进行“加工”
- 图26：双腔准分子激光器原理图
- 图27：步进扫描光刻机照明系统工作原理图
- 图28：投影物镜功能是将掩膜版图样传递到晶圆上
- 图29：投影光刻物镜系统的组成
- 图30：晶圆传送模组
- 图31：晶圆平台模组
- 图32：晶圆平台核心部件微动台
- 图33：ASML双工作台系统
- 图34：2015-2024年收入情况，百万元
- 图35：2024各板块收入占比
- 图36：2016-2024公司收入情况，百万元
- 图37：2024年公司收入占比
- 图38：2019-2024年公司收入情况，百万元
- 图39：公司收入占比，2024
- 图40：2018-2024年公司收入情况，百万元
- 图41：2024年公司收入占比
- 图42：2018-2024年公司收入情况，百万元
- 图43：2024年公司收入占比
- 图44：2019-2024年公司收入情况，百万元
- 图45：2024年公司收入占比
- 图46：星空科技成为公司控股股东
- 表1：掩膜光刻和直写光刻差别
- 表2：ASML光刻机演进
- 表3：3类产线1万片产能所需配置的设备数量，台
- 表4：美国加大对华半导体设备出口管制
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