2025年工艺行业现状分析：APT制备技术专利申请主要来源于中国

  报告网网讯，随着全球工业化进程的加速，工艺行业在技术创新和专利布局方面的重要性日益凸显。特别是在仲钨酸铵(APT)制备领域，作为生产各类钨化合物的关键原材料，APT的制备工艺不仅关系到钨资源的高效利用，还直接影响到化工、航天、电子和军事等下游产业的发展。本文通过对APT制备工艺的专利现状、技术热点、发展路径以及专利布局策略的深入分析，探讨我国在该领域的创新方向和未来发展潜力。

  一、APT制备工艺的专利发展现状

  《2024-2029年全球与中国工艺行业市场现状调研分析及发展前景报告》指出，截至2023年10月31日，全球APT制备技术专利总量达到1,014件，其中同族专利965项。从专利申请趋势来看，APT制备技术的专利申请始于1946年，但在2002年之前，申请趋势较为平缓，且以外国申请为主。2002年起，专利申请数量骤增，至2014年达到顶峰，期间中国的专利申请量占据主导地位。2017年后，专利申请趋势出现波动，2022年因专利公开的滞后性导致申请数量有所下降。在专利类型方面，发明专利占比接近实用新型专利的3倍，显示出该领域的技术创新性较强。

  二、APT制备工艺的技术热点分布

  近十年(2013—2022年)和近五年(2018—2022年)的专利数据显示，APT制备工艺的研究热点主要集中在离子交换、除杂和萃取等关键技术领域。其中，离子交换相关专利数量占比最高，达到43.88%。除杂技术紧随其后，而萃取技术、结晶和粒径控制技术的相关专利数量相对较少。具体来看，近十年的研究重点包括阴离子交换树脂的制备、APT深度净化除杂工艺、钨溶剂萃取、钨酸铵回收工艺以及APT颗粒微细化技术。其中，阴离子交换树脂制备技术的创新热度最高，而APT颗粒微细化技术的创新热度相对较低。近五年，APT制备工艺的技术热点转向了阴离子交换工艺、钨酸铵回收工艺、双水相体系萃取工艺以及APT深度净化除杂工艺等领域。

  三、APT制备工艺的发展路径探究

  通过对APT制备工艺技术路线的梳理，可以发现其发展历程主要围绕降低成本、简化工艺、提高效率、降低污染以及提高纯度等方面展开。20世纪80年代以前，APT制备技术主要由国外主导，研究重点在于去除杂质，制备高纯度的仲钨酸铵晶体。90年代，相关工艺技术开始向降低成本和简化工艺方向发展。进入21世纪，除杂提纯的研发热度进一步提升，同时更加注重生产效率和环境保护。最近十年，APT制备工艺的专利申请数量猛增，除杂提纯技术的研究力度进一步加大，同时在生产配套方面，如降低成本、简化工艺、提高效率和降低污染等方面也取得了显著进展。

  四、APT制备工艺的专利布局策略

  在全球范围内，APT制备技术的专利申请主要来源于中国、美国、日本和德国。中国作为APT制备技术的最大目标市场，其专利布局主要集中在本国，而美国和日本的专利布局也以本国为主，仅有少量专利布局于海外。工艺行业现状分析指出，德国的专利布局则主要面向美国和中国。在APT制备工艺的专利布局中，除杂工艺和晶体粒径控制工艺是制备高纯度APT的关键技术方向。除杂工艺方面，离子交换工艺和试剂除杂工艺是主要手段，同时溶剂萃取除杂工艺也逐渐受到关注。在晶体粒径控制工艺方面，加热温度和溶液pH值的控制是关键因素。此外，专利组合策略的构建对于提升专利竞争力至关重要。链式专利组合适用于整个制备工艺流程，而集束式和降落伞式专利组合则适用于单独的技术分支，如除杂技术。

  总结

  通过对APT制备工艺的专利现状、技术热点、发展路径以及专利布局策略的分析，可以得出以下结论：提高纯度一直是APT制备工艺的核心目标，离子交换、除杂和溶剂萃取是该领域的关键研发方向。在专利布局方面，中国作为APT制备技术的主要创新主体，应优先在除杂工艺和晶体粒径控制工艺上进行布局，同时结合链式、集束式和降落伞式专利组合策略，提升自身在该领域的竞争力。随着全球对APT需求的持续增长，我国在APT制备工艺领域的技术创新和专利布局将为相关产业的发展提供重要支撑。