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涂胶显影设备是半导体制造工艺中的关键设备，国产化需求旺盛，市场发展潜力巨大

  1. 2024-10-18 17:10:58上传人：一曦**流年
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一、什么是涂胶显影设备涂胶显影设备是半导体制造光刻工艺中的关键设备，主要用于半导体光刻工艺中的光刻胶涂布和显影过程。涂胶显影设备的性能直接影响到光刻工序细微曝光图案的形成，以及显影工艺的图形质量，对后续蚀刻和离子注入等工艺中图形转移的结果有着深刻的影响，是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。根

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